金沙js6038

半导体、显示面板扩散、刻蚀、CVD 工序产生CF₄、NF₃等PFCs 全氟化合物，性质稳定、传统工艺难降解。金沙js6038等离子水洗设备（Plasma Wet Scrubber），采用等离子分解 + 湿法洗涤两段式工艺，通过 DBD / 电弧放电打断 C‑F 键，彻底降解污染物，再经洗涤塔深度净化，反应温度 1500‑3000℃，净化效率 99.9% 以上，可兼容电热水洗处理的各类废气。

1. 安全稳定：采用自动化控制，进行温度、压力、流量、液位等监测，联动扩撒、调温、降温、报警、停机等多重安全联锁，确保全程受控；
2. 高效净化：高能电子轰击结合自由基氧化，彻底破坏分子结构，净化效率可高达99.9%以上；
3. 适用性：可处理电热水洗设备无法有效处理的极高稳定性气体（如PFCs）；
4. 耐腐蚀：采用强化防腐设计，具有优良的耐腐蚀性能；
5. 智控孪生赋能：融合数字孪生与集中智制优势，通过感知矩阵、多维交互、场景化智控等技术，实现设备全生命周期深度赋能。

适用于半导体与显示面板制造的扩散、刻蚀、化学气相沉积等核心工序中，产生CF₄、NF₃等全氟化合物（PFCs）废气治理。